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Machine à pulvérisation cathodique magnétron sous vide

Cette gamme de machines de pulvérisation cathodique magnétron sous vide est dédiée à la fois pour des développements process mais également pour produire. Basée sur une enceinte cylindrique à axe vertical, la versatilité et la diversité de configurations permettent de répondre parfaitement aux demandes spécifiques des clients. Dans cette gamme, nous retrouvons notre bestseller avec plus de 50 équipements vendus avec le modèle DP650.

AC450

machine à dépôt de couches minces PVD par pulvérisation cathodique

Le bâti AC450 est un système de dépôt de couches minces PVD par pulvérisation cathodique qui présente une diversité de configurations qui vous permettra de vous équiper de ce dont vous avez besoin.

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DP650

machine dépôt couches minces sous vide

Équipement de pulvérisation cathodique versatile à souhait, la DP650 possède une chambre circulaire de diamètre 650 mm. Ce volume permet d’accueillir soit quatre sources de 200 mm, soit six sources de 100 mm.

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DP850

machine production multicouches

Le système DP850 est orienté vers la production. Pouvant recevoir jusqu’à 6 cathodes magnétron de 200 mm, il permet la réalisation de multicouches complexes. Le sas d’introduction optimise les temps de cycles et la qualité des films déposés.

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DP1100

enceinte de dépôts PVD

Sur la base de notre gamme DP (enceinte circulaire à axe vertical) de dépôts PVD par pulvérisation cathodique par exemple magnétron, nous avons développé une version avec un diamètre de chambre de 1100 mm.

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Comparatif des machines de la gamme DP à pulvérisation cathodique magnétron sous vide

AC450DP650DP850DP1100
Dimensions enceinte (mm)Ø450 x 306 Ø650 x 320Ø850 x 400Ø1100 x 460
Surface de dépôt utile (mm) *Ø2006 x Ø1004 x Ø200Ø300
Uniformité zone de dépôt± 2%± 2%± 3%± 3%

* Surface de dépôt utile donnée à titre d’exemple
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