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CLUSTERTOOL, système de synthèse de couches minces
La gamme clustertool est notre système ultime de synthèse de couches minces et elle est le fruit des 25 ans d’expérience dans le domaine de la conception de machines spéciales PVD.
L’élément principal de l’architecture de la machine est le robot de transfert sous vide développé par les bureaux d’études d’Alliance Concept. La capacité maximale du robot est un substrat de 300mm de diamètre avec un poids de 1.5kg. Des chambres avec des vannes d’isolement sont ajoutées autour du robot afin de supprimer la contamination particulaire inter-modules.
Nous avons étudié et réalisé diverses configurations qui permettent de travailler avec des enceintes de dépôt une configuration PVD et/ou en configuration évaporateur. Enfin, un port est réservé pour le sas de chargement et déchargement.
CT100
La philosophie de ce cluster PVD est de pouvoir offrir un système clustertool multi-chambre de haute qualité, à un coût maîtrisé qui saura s’adapter aux budgets les plus serrés. L’équipement se compose de deux modules basés au choix sur les designs de nos best-sellers, la DP650 ou l’AC450, isolés l’un de l’autre par un sas permettant une contamination particulaire quasi-nulle.
CT200
Outil ultime d’élaboration de couches minces, la CT200 est l’un des clustertools les plus avancés de sa génération et valorise plus de 25 années d’expérience.
Equipement versatile et évolutif destiné à être installé en salle blanche, ce cluster PVD est basé sur une chambre de transfert centrale équipée d’un robot sous vide de notre conception, fiable et sécurisé. De cette chambre sont distribués les substrats vers les différents modules de procédé. Cette machine peut être constituée de modules différents allant jusqu’au nombre de 6, autour d’une chambre de transfert.
Caractéristiques des clusters PVD
| CT100 | CT200 | |
|---|---|---|
| SAS d'introduction | Manuel | Automatique monoplaque ou K7 semi |
| Chambre de dépôt | AC450 et/ou DP650 | AC450, DP650, DP850, RIE, EVA, sur mesure |
| Surface de dépôt utile (mm) * | Ø200 | Ø200 et Ø300 |
| Uniformité zone de dépôt | ± 2% | ± 2% |