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Equipement compact et modulaire
Evaporation - Pulvériation
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« Investissez dans la base aujourdhui
et complétez-la demain ! »
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Evaporation
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Pulvérisation
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| Vitesse de dépôt |
~ 1 Å.s-1
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~ 7,5 Å.s-1
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| Puissance |
-
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150W RF (cible diamètre 75 mm)
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| Intensité |
450A
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-
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| Configuration
Porte-substrat / Cible |
Centré / Cible
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Centré / Cible
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| Pression de travail |
5x10-4 mbar
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8x10-3 mbar
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| Matériaux
déposés |
Chrome
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Aluminium
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| Distance Source
/ Substrat |
380 mm
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70 mm
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Télécharger la brochure
(PDF)
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Fichier
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Taille du fichier
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Langue
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56k
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128k
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512k/ADSL
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| eva300_fr.pdf |
1612ko
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3'55"
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1'36"
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0'24"
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Disponible
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| eva300_gb.pdf |
0ko
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Non disp.
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| eva300_de.pdf |
0ko
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Non disp.
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